光敏印章是章墨一体印章，该印章是目前国际上最新型的一种印章，1998年初从日本引进，光敏印章基本原理是利用特殊春闷材料的感光性，在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜，从而达到印章的效备核果。印油通过光敏平面橡胶渗透，因此，使用光敏印章制作印章速度快。光敏印章仿森掘的工艺特点是印面相对比较平整，印面字迹是由光敏橡胶垫上的微孔组成的，印油在压力作用下，通过印面文字微孔渗出形成印文。光敏印章印迹清晰，字迹的干涸时间短，附着力强，具有较强耐水性。成品外形美观、结构合理。使用次数为2-3万次。生产工艺先进，因而在我国迅速推广，光敏印章已成为印章行业升级换代产品。 光敏印章不用印台，即印即干，干净方便，字迹清晰，可反复注油，使用寿命长,印文平实清晰。
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